Desbloqueando acesso exclusivo à tecnologia de gravação de ponta com a Intel

Publicado em 21 de dezembro de 2023 às 13h10. por cabeçalho do artigo

O fundador taiwanês TSMC viveu um bom ciclo no setor de semicondutores ao recuperar os maiores clientes capazes de encomendar dezenas de milhões de chips anualmente e garantir o retorno do investimento dos grandes recursos comprometidos com o refinamento das técnicas de gravação.

Considerando a sua comprovada proficiência na navegação rápida numa faixa que vai de 14 a 3 nanômetros, resultando em preeminência na indústria, um equilíbrio pode ocorrer durante a migração para processos de gravação de 2 nanômetros, reintroduzindo a dinâmica competitiva e restaurando a fragmentação do mercado.

Por um lado, a Samsung mudou do nó de 3 nm para os transistores de nova geração GAA enquanto a TSMC permaneceu no FinFET e só o usará com 2 nm. Isto permitiu ao grupo coreano adquirir conhecimentos especializados e ajustes de equipamentos que serão mais fáceis mais tarde, quando a TSMC tiver que passar por esta fase inicial de ajustes.

A Intel anunciou um plano ambicioso para recuperar a sua posição como líder na indústria tecnológica nos próximos quatro anos, expandindo a sua rede de recursos computacionais para cinco locais em todo o mundo. Esta iniciativa representa um investimento significativo para a empresa e reflete o seu compromisso com a inovação e o crescimento.

Por outro lado, o grupo Intel está se mostrando muito mais ofensivo sob a direção do CEO Pat Gelsinger e está retornando muito rapidamente aos melhores nós de gravação…a ponto de querer ser o primeiro a oferecer um processo Intel 20A (equivalente a 2 nm) a partir de 2024 para as necessidades dos seus processadores mas também para outras empresas através do seu serviço IFS (Intel Foundry System), quando a transição para 2 nm só está prevista para 2025 na Samsung e TSMC.

Litografia EUV avançada, o cerne da questão

E atingir esses níveis de gravação ultrafina exigirá equipamentos avançados. Além da litografia EUV (Extrema Ultra Violeta) usada para 3 nm, o fabricante holandês de equipamentos ASML prepara variações EUV High-NA 0,55 (NA para abertura numérica) que permitirão ir ainda mais baixo.

De acordo com analistas da TrendForce, a Intel recuperará o primeiro equipamento de litografia EUV High-NA e deverá adquirir 6 das 10 máquinas muito complexas e caras que serão fabricadas neste ano.

Litografia EUV (crédito: ASML)

À luz da potencial aquisição de determinados ativos pela Samsung, é concebível que possa surgir concorrência entre a Samsung e a TSMC pelo acesso a uma mercadoria escassa e dispendiosa, uma vez que apenas a ASML possui a capacidade de fabricar tais recursos em quantidades restritas.

O investimento da Intel e da Samsung num fornecedor holandês resultou em parcerias mutuamente benéficas, proporcionando-lhes uma vantagem competitiva em termos de lançamentos atempados de produtos.

Gravura de 2nm, renascimento do setor

A Intel pode acelerar a produção de sua inscrição Intel 20A, que deverá estar disponível já em 2024, logo seguida pela otimização Intel 18A, uma tecnologia comparável com equivalente a 1,8 nanômetros, destinada ao uso em processadores Intel Core e Xeon, como bem como para outros clientes em 2025.

Os especialistas prevêem que a Samsung terá a capacidade de iniciar a fabricação em grande escala com um comprimento de nó de 2 nanômetros em algum momento durante a segunda metade de 2025, simultaneamente com a preparação da TSMC para o mesmo marco. No entanto, parece que a produção em massa real só poderá tornar-se viável em 2026 devido a vários factores e limitações.

Essas diferenças de calendário levarão os grandes clientes a mudar de laticínios? Isto ainda está para ser visto porque o tempo não é tudo. A Samsung foi a primeira a oferecer gravação em 3 nm em 2022, seis meses antes da TSMC, mas seus baixos rendimentos devido à transição para transistores GAA não permitiram que ela fizesse a diferença.

Fonte: TrendForce Journalist deste site especializado em mobilidade/Ante-Geek das profundezas da Web e de outros lugares

*️⃣ Link da fonte:

TrendForce,